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激光反射镜基片
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  产品展示 >> 光学级硅基片

红外用单晶硅片
详 细 介 绍:

应红外光学级硅窗口片、反射镜基片详细介绍:
    单晶硅是综合性价比优良的红外材料。可分为透过级(Transmissive Grade)及反射级(Mirror Grade)。作为透射级材料的光学级直拉单晶硅(OCZ-Si)广泛应用于中红外(1—6um)波段,红外透过率超过50%。区熔单晶硅可用于更宽波段(1--14um),高纯的区熔单晶硅(HPFZ-Si)甚至还可用于远红外波段(大于30um)。
硅单晶还是优良的激光反射镜材料。相比较于其他反射镜材料如铜和钼,硅单晶由于其良好的导热性、优良的热稳定性、较低的热膨胀系数以及密度相对较低、成本低,易于精密加工等优势,目前是CO2激光器反射镜首选的基底材料。
我公司是专业制造单晶硅的企业,拥有从晶体生长到晶片加工、检测等垂直集成的产品线,同时提供专业的服务。公司产品包括直拉(CZ)单晶硅、区熔(FZ)单晶硅切割片(as cut)以及研磨片(lapped),可根据用户需求,选择合适的材料,并加工成各种形状(圆形,方形,长方形等)。

产品参数
材料:单晶硅(CZ OR FZ)
纯度: >99.999%
晶向:< 100 > OR < 111 >
型号:N OR P
直径:0.5"—6"
厚度: >0.5mm
电阻率:1—1000Ω-cm

加工精度:
切割片(as cut)
直径公差:+0.0/-0.2mm
厚度公差:±0.2mm
总厚度变化(TTV):≤25?m
边厚度变化(ETV):≤25?m.
垂直度:≤50?m
研磨片(Lapped)
直径公差:+0.0/-0.1mm
厚度公差:±0.1mm
总厚度变化(TTV):≤10?m
边厚度变化(ETV):≤10?m.
垂直度:≤25?m

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